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光電催化是光催化與電(diàn)催化的結合,可將兩種技術的優點最大化體現。
與(yǔ)光催化相比,光(guāng)電催化反應中(zhōng),光電極可利用太陽光照射(shè)產生(shēng)光生電子,提高反應活性和(hé)催化效率(lǜ)。
與電催化(huà)相比,光電(diàn)催化反應大大(dà)降低了(le)外部能量的(de)注入,可有效減少能源消耗和環境(jìng)汙染。
光電催化(huà)還可以將因能帶結構的失配而(ér)不適用於光催化的催化劑,在適當的外加電壓條件下適用於光電催化。
光電催化反應可根據反應物質和反應類型的不同,分為光電(diàn)催化分(fèn)解水製氫、光電催化(huà)降解、光電催化二氧化碳還原、光電催化氮還原合成氨等等。
光電催化反應過程(chéng)是在有光照(zhào)射作用下的(de)電化學過程,是因吸收光使電子處於激發狀(zhuàng)態,產生電荷傳遞(dì)的過程。由於半導體材料存(cún)在禁帶,價帶電子與導帶電(diàn)子之間的相(xiàng)互(hù)作用很弱,受到光的激發以後,半導體的價帶電子進入導帶,並在價帶留(liú)下空穴,引發光電化學反應。
光電催化是光催化與電催化的結合,可將兩種技術的(de)優點最大化體現。
基於半導體材料的光電催化反應池主要包含四個部分:
1. 光電極:也稱工作電極,是光電催(cuī)化反應池中的核心部件,由用於捕(bǔ)獲光能量的半導體材料構成。
一般情況下,將n型半導體薄膜/導(dǎo)電基底稱為光陽極,p型半導體薄膜/導電基底稱為光陰極。
常(cháng)見的光電(diàn)極製備方式是(shì)將(jiāng)光電極半(bàn)導體材料附著於氧(yǎng)化銦錫(ITO)或摻氟氧化錫(FTO)等有著(zhe)較低功函數的透明導(dǎo)電氧化物鍍膜玻璃上,將光電極夾持在如圖2(a)所示的電極夾具上使用。
2. 對(duì)電極:若隻研究單一光(guāng)陽極或光陰極時,需要引入對電極來(lái)充當(dāng)另一半的半反(fǎn)應場所。對電極通常選用具有(yǒu)良好電荷傳輸性能和較低反應過電勢的材料,一般為(wéi)Pt電極。

3. 參比電極:為確保施加在光電極(jí)上的電位準確穩定,通常(cháng)會加裝參比電極,將整個光(guāng)電催(cuī)化反應池構建成三電極體係。參比電極可選擇Ag/AgCl電極、Hg/Hg2Cl2電極或Hg/HgO電極.
4. 適當的電解質溶液:電解質溶液(yè)在光電催化反應反應(yīng)池中起聯通電路的作用,需要具有良好的離子電導(dǎo)率。
根據光電催化反應中光電極(jí)材料性質的不同(tóng),電解質溶液的pH值和構成電解(jiě)質溶液的(de)離子類型也(yě)不盡相(xiàng)同。
在選擇電解質溶液時需(xū)要注意的是,要確保所選的(de)電解質溶液不與(yǔ)所選用的參比電極發生反應。
電解質溶液可分為三種:
1)酸性電(diàn)解質溶液:H2SO4溶液等;
2)中(zhōng)性電解質溶(róng)液:Na2SO4溶液、K2SO4溶液等;
3)堿性電解質溶液:NaOH溶(róng)液、KOH溶液等。
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